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镀膜电源特点之改变沉积规则

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镀膜电源特点之改变沉积规则

作者:深圳市英能电气有限公司

时间:2023-04-12

真空镀膜技术是一种非常重要的工业制造技术,可以制造出各种物品的表面涂层,比如光学元件、电子元器件、汽车零部件等。在真空镀膜过程中,电源扮演着非常重要的角色。改变电源可以改变沉积规则,从而调整涂层的性质和特性。

其中最常见的电源是离子源。离子源工作时,通过引入高能离子束使得沉积物表面的蒸发度增大,从而加快涂层沉积速度。但是,不同的离子源会产生不同类型的离子束,利用不同类型的离子束可以选择性地促进或者限制某些化学反应,达到控制涂层性质的目的。

另外一个重要的电源是磁控溅射源。磁控溅射技术利用高能离子束轰击靶材,使得靶材表面的原子释放出来,形成喷射流,最终沉积在基底上。通过改变溅射源的大小、形状、材料等参数可以调整喷射流的能量和强度,从而影响涂层的成分和微观结构。

真空镀膜电源可以通过改变离子种类、束粒子能量和强度、喷射流强度等手段,实现对涂层沉积速度、成分、结构等性质的精细调控,是真空镀膜技术不可或缺的重要组成部分。


深圳市英能电气有限公司是一家集真空镀膜电源/PVD镀膜电源的研发、生产与销售为一体的高科技企业,已获得高新技术企业认定,通过iso:认证,拥有专利多份。产品已获得ce、rohs认证。专注提供真空镀膜电源及工业控制领域的解决方案。咨询热线:180-2547-6062

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