离子镀膜技术的新特点

在了解了一般镀膜之后，大家肯定愿意了解离子镀膜是怎样的呢？我们说离子镀膜技术的过程有这样的特点，也是在真空中进行的，但是他的工件要接单极性脉冲磁控电源的负极，也就是要接负偏压，因此是这些镀膜过程有以下新的特点：

1.由于有了高压正极所以使在真空室中，电子就会被加速成为高能电子，当他与膜层原子相互碰撞时会产生碰撞电离进行气体放电，以钛原子为例，蒸发出来的钛原子在离子镀膜的环境中与高能电子产生碰撞变成钛离子和多了一个电子形成等离子体，那么电子具有多高能量才能使钛离子变成钛原子呢？他的最低能量是6.83ev，1ev是1.16*10^4绝对温度，也就是说1ev相当于11600温度下的原子的能量，那么这个时候钛离子被电离以后所具有的最低能量就是6.83ev。6.83ev相当7万多度左右，而我们钛离子的蒸发温度也就是2千度左右，所以钛离子的能量要比原子的高30多倍，因此离子镀膜过程中，膜层离子的能量要比普通镀膜是离子的能量高的多，以氩气为例，说明原子的电离过程，氩气在真空室中也会被高能电子电子成氩离子，形成氩的等离子体，这时候氩的能量就升高到了15.755ev，下面我们看一下氩原子的电离过程，这个动画片示意的说明了氩原子的电离过程，氩原子有18个电子围绕着原子核运动，他们的正负电荷是相等的，所以氩原子处于稳定状态，当一个高能的电子和他碰撞的时候，把最外层电子打出去就一个缺失电子的氩离子，氩离子就处于高能状态。

离子镀膜技术的第二个特点：是离子被加速到达工件表面，钛离子会被工件负偏压吸引2.达到工件表面，由于负偏压的吸引他的能量会提高，E=e*U,e是离子所带的电荷量，U是工件所加的负偏压，负偏压越高离子的能量越大，所以离子镀膜时到达工件表面，离子能量可高达10-500个电子伏特ev，高能离子到达工件表面形成膜层，由于自身能量高，形成化合物的时候不需要外界提供更多的热能，所以可以降低获得化合物的膜层的温度，像离子镀膜技术沉积氮化钛的时候，他的温度可以降低到500度以下，这两个照片右上角的是在高速钢刀工具下获得氮化钛硬质涂层，一般是在500度左右就能获得氮化钛硬质涂层，左下角的是装饰层，在餐具手表卫生解决的表面要形成氮化钛装饰层的时候200多度就可以了，所以离子镀膜技术一个最大的特点就是把形2.成化合物的温度降低了。

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