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单极性脉冲偏压电源如何改善膜层的致密性和硬度?

作者:深圳市英能电气有限公司

时间:2024-04-29

  单极性脉冲偏压电源通过以下方式改善膜层的致密性和硬度:

  1. 离子轰击效应:单极性脉冲偏压电源产生的高能离子束在沉积过程中持续轰击工件表面。这种轰击效应有助于打破表面弱结合点,移除吸附的气体分子、杂质和松散原子,从而净化并激活工件表面。同时,轰击作用还使得沉积原子能够更深地渗透到工件表面的微观缺陷中,形成更紧密的结合,提高膜层的致密性。

  2. 能量传递与表面改性:高能离子轰击工件表面时,会将其携带的能量传递给表面原子。这些能量可以促使表面原子重新排列,形成更紧密、更均匀的晶格结构。同时,轰击作用还可能在表面产生压应力,有助于提高膜层的硬度。

  3. 减少缺陷与细化晶粒:单极性脉冲偏压电源产生的离子束具有较高的能量密度和较窄的能量分布,这有助于减少沉积过程中产生的缺陷(如孔隙、裂纹等)。此外,高能离子轰击还可以细化膜层的晶粒尺寸,从而进一步提高膜层的致密性和硬度。

  4. 优化沉积条件:通过调整单极性脉冲偏压电源的参数(如脉冲幅度、频率、占空比等),可以优化沉积过程中的离子能量、束流密度和沉积速率等关键参数。这些参数的优化有助于在保持较高沉积速率的同时,实现膜层致密性和硬度的提升。

  综上所述,单极性脉冲偏压电源通过离子轰击效应、能量传递与表面改性、减少缺陷与细化晶粒以及优化沉积条件等多种机制共同作用,有效改善了膜层的致密性和硬度。这使得单极性脉冲偏压电源在真空镀膜等工艺中具有重要的应用价值。

  深圳市英能电气有限公司是一家集真空镀膜电源/PVD镀膜电源的研发、生产与销售为一体的高科技企业,主要产品:中频磁控溅射电源单极性脉冲偏压电源/双极性脉冲偏压、直流偏压电源、直流磁控溅射电源、单极性脉冲磁控溅射电源,阳极电源、离子源电源、弧电源、高功率脉冲磁控溅射电源,HIPIMS电源等。已获高新技术企业、iso9001认证,拥有专利多份。产品已获得ce、rohs认证。专注提供真空镀膜电源及工业控制领域的解决方案。咨询热线:137-1700-7958

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