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离子镀膜技术-多弧离子镀

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离子镀膜技术-多弧离子镀

作者:深圳市英能电气有限公司

时间:2022-04-27

离子镀膜技术可能大家并不陌生,但是具体有哪些种类具体又如何细分想必并不是太清楚,小编今天带您走进我们离子镀膜技术中的多弧离子镀。

多弧离子镀是把真空弧光放电用于蒸发源的镀膜技术,也称真空弧光蒸镀法。蒸镀时阴极表面出现许多非常小的弧光辉点,把这种技术实用化的美国 Muli-Arc公司的译名译为多弧,所以一般称为多弧法。如果在工作室中通入所需的反应气体,则能生成膜层致密均匀、附着性能优良的化合物膜层。多弧离子镀可设置多个弧源,为了获得好的绕射性,可独立控制各个源。这种设备可用来制作多层结构膜、合金膜、化合物膜。

多弧离子镀有以下的特点

1、从阴极直接产生等离子体,不用熔池,弧源可任意方位、多源布置;

2、设备结构较简单,不需要工作气体,也不需要辅助的离子化手段,弧源既是阴极材料的蒸发源,又是离子源,而在进行反应性沉积时仅有反应气体存在,气氛的控制仅是简单的全压强控制;

3、离化率高,一般可达60%~80%,沉积速率高;

4、入射离子能量高,沉积膜的质量和附着性能好;

5、采用低电压电源工作,较为安全。多弧离子镀的应用面广,实用性强,特别在高速钢刀具和不锈钢板表面上镀覆 TiN 膜层等方面发展最为迅速。

一个好的镀膜技术当然也需要有一个好的硬件配套,也就离不开一台给力的电源的助力,今天小编带你走进英能公司,这里有很好的电源提供给大家,可以说是应有尽有,常规电源中频磁控溅射电源直流磁控溅射电源单极性脉冲磁控溅射电源脉冲偏压电源和双极脉冲偏压电源弧电源离子源电源,当然还可以定制,能基本满足PVD镀膜技术中的电源需求,还不赶紧拿起手机订购,说不定还有意外惊喜等着您!您的满意是英能不变的初衷!

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