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真空镀膜电源之HIPIMS电源

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真空镀膜电源之HIPIMS电源

作者:深圳市英能电气有限公司

时间:2023-10-25

HIPIMS电源属于高功率脉冲磁控溅射电源的一种,通过降低占空比到10%,在相同功率情况下,可以使得磁控溅射峰值电流大幅度的增加。在镀膜工艺中,往往希望得到高的峰值电流和靶电压,但这两者往往是矛盾的,需要在工艺中综合考虑。HIPIMS电源可调参数多,即使在相同占空比下,针对不同靶材,其脉冲宽度,占空比,靶电压与峰值电流都会出现不同的特性,增加工艺控制手段的同时,也增加了优化难度。随着靶电压的增加,峰值电流密度也会增加,但是在不同电压段,峰值电流变化趋势也不同。在长脉宽下,金属放电进入自持放电模式,会降低溅射速度,但可以增加离子种类和数量,需要根据工艺要求择优选择。

  深圳市英能电气有限公司是一家集真空镀膜电源/PVD镀膜电源的研发、生产与销售为一体的高科技企业,主要产品:中频磁控溅射电源单极性脉冲偏压电源/双极性脉冲偏压、直流偏压电源、直流磁控溅射电源、单极性脉冲磁控溅射电源,阳极电源、离子源电源、弧电源、高功率脉冲磁控溅射电源,HIPIMS电源等。已获高新技术企业、iso9001认证,拥有专利多份。产品已获得ce、rohs认证。专注提供真空镀膜电源及工业控制领域的解决方案。咨询热线:137-1700-7958

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