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电源工作模式对中频磁控溅射沉积速率的影响

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电源工作模式对中频磁控溅射沉积速率的影响

作者:深圳市英能电气有限公司

时间:2023-11-06

电源工作模式是中频磁控溅射沉积过程中的重要参数,它直接影响着沉积速率的大小。在中频磁控溅射沉积过程中,电源工作模式可以分为直流模式和脉冲模式两种。直流模式下,电源会持续地提供恒定的电压和电流,使靶材表面的离子在磁场的作用下被加速并击打到基板上,从而实现沉积。这种模式下,由于电源的稳定输出,沉积速率相对较为稳定。而在脉冲模式下,电源会周期性地改变电压和电流的输出,即电源会以一个固定的频率不断切换工作状态,使得离子的能量也会产生周期性的变化。这种模式下,沉积速率会有所增加,并且由于能量的扰动,沉积层的均匀性可能会有所降低。因此,在实际应用中,根据具体的需求选择合适的电源工作模式对于获得理想的沉积速率和沉积层质量非常重要。


  深圳市英能电气有限公司是一家集真空镀膜电源/PVD镀膜电源的研发、生产与销售为一体的高科技企业,主要产品:中频磁控溅射电源、单极性脉冲偏压电源/双极性脉冲偏压、直流偏压电源、直流磁控溅射电源、单极性脉冲磁控溅射电源,阳极电源、离子源电源、弧电源、高功率脉冲磁控溅射电源,HIPIMS电源等。已获高新技术企业、iso9001认证,拥有专利多份。产品已获得ce、rohs认证。专注提供真空镀膜电源及工业控制领域的解决方案。咨询热线:137-1700-7958

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