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真空镀膜电源

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真空镀膜电源如何控制沉积速率?

作者:深圳市英能电气有限公司

时间:2024-03-20

  真空镀膜电源控制沉积速率的方式主要是通过调节电源的输出参数,如电压、电流等来实现的。具体来说,电源可以提供负压电场,该电场可以控制镀膜材料在真空镀膜过程中的沉积速率。通过调节电源的工作参数,如输出电压和电流的大小,可以精确控制镀膜材料的蒸发或溅射速率,从而实现对沉积速率的控制。

  此外,在真空镀膜设备中,真空镀膜电源通常与高频电源配合使用。高频电源用来产生高频电场,使得材料以离子形式在真空室中沉积到基底表面上,而真空镀膜电源(负压直流电源)则用来控制沉积速率。通过合理调节高频电源和真空镀膜电源的工作参数,可以实现对薄膜性质(如沉积速率、薄膜厚度等)的控制和调节,从而满足不同的应用需求。

  需要注意的是,具体的控制方式和参数设置可能因不同的设备和工艺而有所差异,因此在实际操作中需要根据具体情况进行调整和优化。

  深圳市英能电气有限公司是一家集真空镀膜电源/PVD镀膜电源的研发、生产与销售为一体的高科技企业,主要产品:中频磁控溅射电源单极性脉冲偏压电源/双极性脉冲偏压、直流偏压电源、直流磁控溅射电源、单极性脉冲磁控溅射电源,阳极电源、离子源电源、弧电源、高功率脉冲磁控溅射电源,HIPIMS电源等。已获高新技术企业、iso9001认证,拥有专利多份。产品已获得ce、rohs认证。专注提供真空镀膜电源及工业控制领域的解决方案。咨询热线:137-1700-7958

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