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真空镀膜之溅射靶材浅谈

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真空镀膜之溅射靶材浅谈

作者:深圳市英能电气有限公司

时间:2022-11-16

真空镀膜工艺应用的广泛,作用也很强大,但是少了磁控溅射等各种靶材的助力,真空镀膜再厉害也是空有满腔抱负而无处施展。

1、靶材是什么?

磁控溅射靶材是一种用溅射沉积或薄膜沉积技术制造薄膜的材料。大多数溅射靶材料是金属元素或合金,尽管也有一些陶瓷靶材可以为各种工具制造硬化的薄涂层。 

2、溅射靶材的大小
最小的靶标直径不到1英寸(2.5厘米),而最大的矩形靶标的长度远超过1码(0.9米)。一些溅射设备需要更大的溅射靶。 

3、溅射靶材形状的多样性
溅射系统的设计,即进行薄膜沉积过程的机器,已经变得更加多样和具体。比如长圆柱体靶材,能提供额外的好处,包括更快的沉积速度、更少的热损伤和增加的表面积,从而带来更大的整体效用。 

4、溅射靶材应用领域

  • 玻璃涂层
  • 光学镀膜
  • 太阳能电池涂层
  • 半导体类

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