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磁控溅射镀膜工艺的优势

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磁控溅射镀膜工艺的优势

作者:深圳市英能电气有限公司

时间:2023-01-06

磁控溅射镀膜技术相比其他的镀膜工艺,能获得更好的膜层组织,当然也离不开一款稳定性更高的磁控溅射镀膜电源,小编今天主要介绍磁控溅射镀膜工艺的流程和优势。

磁控溅射镀膜工艺首先安装工件,然后预抽真空到6Pa,然后开启扩散泵,本底真空度要到6*10-3,对工件进行烘烤加热,然后通入氩气,真空度要在2*10-1Pa~5*10-1 Pa。接通磁控溅射电源以后,靶电压控制在300V-600V,氩气被电离,产生阴极溅射作用,获得膜层粒子。如果通入反映气体就可以得到化合物膜,达到一定的厚度以后关闭溅射电源、偏压电源、氮气、氩气,当工件低于100度的时候才可以充入大气,取出工件。

磁控溅射可以镀各种膜层,当工件是玻璃、陶瓷时只需要烘烤加热,然后开启磁控溅射电源,进行阴极溅射镀膜,当工件为金属材料时,工件要接负偏压,溅射下来的原子在等离子体中被电离,得到的金属离子在负偏压的作用下到达工件,这个过程叫做磁控溅射离子镀过程。如果通入氩气获得的是纯金属膜,通入的反应气体获得是化合物膜,叫反应磁控溅射,所以用磁控溅射可以镀各种膜层。

磁控溅射镀膜是在辉光放电中等离子体中进行的,膜层粒子由氩离子从阴极靶材上溅射到的。阴极靶材没有熔池始终保持固态,阴极靶材的位置可以随意安放,可以水平安放也可以垂直安放,磁控溅射靶是个大面积镀膜源,镀膜均匀区大,不足就是平面靶材的利用率低,磁控溅射镀的膜层更加细腻,装饰效果更好。

上面提到要得到一个理想的镀膜效果离不开一款好的镀膜电源。英能是一家专业生产溅射电源的厂家,在溅射镀膜电源和偏压电源方面的研究取得了卓越的成绩,目前最常见的中频磁控溅射电源直流磁控溅射电源偏压电源都展现出了极大的优势,有兴趣可以拨打电话18025476062,期待您的来电咨询和了解。

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