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pvd镀膜和电镀的区别

作者:深圳市英能电气有限公司

时间:2024-06-11

  PVD镀膜(物理气相沉积)与电镀在多个方面存在显著的差异。以下是一些主要的区别:

  原理与过程:

  PVD镀膜:在真空条件下,采用物理方法将材料源(固体或液体)表面气化成气态原子或分子,或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜。这个过程包括镀料的气化、原子、分子或离子的迁移和在基体上的沉积。

  电镀:则是通过电化学方法,在导电的基体表面上沉积一层金属或合金的过程。电镀过程中,基体作为阴极,金属阳极在含有欲镀金属离子的电解液中,通电后,金属离子在阴极表面放电沉积形成镀层。

  特性与优势:

  PVD镀膜:PVD镀膜加工的膜层与基体表面结合力更大,硬度更高,耐磨与耐腐蚀性能更好。此外,PVD镀膜可以镀出的膜层颜色更多更漂亮,且不会产生污染物质,是一种绿色环保的工艺。然而,由于PVD电镀是采用炉内电镀的,对电镀产品尺寸有所限制。

  电镀:电镀可以在金属材料上也可以在非金属材料上进行,能镀出各种金属镀层、二元合金、三元合金乃至于四元合金,还可以制作复合镀层、纳米材料等。电镀产品的导电性可能会显著增强,但电镀过程中可能会产生废液,对环境造成影响。

  应用领域:

  PVD镀膜:广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域,可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。

  电镀:电镀的应用范围也非常广泛,包括汽车、电子、玩具、五金等行业。

  总结来说,PVD镀膜和电镀在原理、特性、优势和应用领域等方面存在明显的区别。在选择使用哪种工艺时,需要根据具体的产品需求、环保要求、成本预算等因素进行综合考虑。

  深圳市英能电气有限公司是一家集真空镀膜电源/PVD镀膜电源的研发、生产与销售为一体的高科技企业,主要产品:中频磁控溅射电源单极性脉冲偏压电源/双极性脉冲偏压、直流偏压电源、直流磁控溅射电源、单极性脉冲磁控溅射电源,阳极电源、离子源电源、弧电源、高功率脉冲磁控溅射电源,HIPIMS电源等。已获高新技术企业、iso9001认证,拥有专利多份。产品已获得ce、rohs认证。专注提供真空镀膜电源及工业控制领域的解决方案。咨询热线:137-1700-7958

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