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HiPIMS技术与电源发展

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HiPIMS技术与电源发展

作者:深圳市英能电气有限公司

时间:2022-06-08

HiPIMS电源有很多的优点,也有很多的缺点,它的沉积速率只有直流磁控溅射电源的15%-70%,还有时会有打弧现象,原因就是在脉冲期间,靶材上加较高的负靶压,反而金属离子重新回吸到靶面上,产生“回吸现象”,使沉积速率降低。

近年来电源厂商在改进上做了很多的工作,包括以下几方面:负极双极脉冲,正负交变双极脉冲电源,动态反向脉冲电源,脉冲尾部瞬时正电压电源,HIPIMS与偏压电源同步工作控制电源,沉积速率和膜层质量上都有一定的进步,所以有些生产电弧离子镀的厂商也采用了HiPIMS技术,在沉积无氢DLC硬质涂层获得了新的突破。

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HiPIMS电源近年不断的发展,我司在这方面的领域也颇有研究,也有推出这方面的电源,欢迎大家垂询!

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