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中频磁控溅射电源在靶中毒方面的应用

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中频磁控溅射电源在靶中毒方面的应用

作者:深圳市英能电气有限公司

时间:2022-12-14

在磁控溅射镀膜行业中,大家对中频电源再熟悉不过了,但是大家对中频电源的应用原理还不是太清楚,今天我们就来谈谈中频磁控溅射电源可以克服靶中毒,使反应镀膜速率加快的现象。

磁控溅射中的靶中毒就是在靶面上沉积了绝缘膜,所以氩离子不能进入阴极靶材,而且阳极上也沉积的绝缘膜,电子也达到不了阳极,产生了阳极消失现象。随着绝缘膜的加厚,靶电压突然降低,电流突然增大,产生打火现象,使镀膜过程停止。这些现象中和为靶中毒现象。当完全呈现靶中毒时,就很难恢复正常的磁控溅射过程。中频电源可以消除靶中毒,是因为中频电源的电极分别接在两个孪生靶上,电子在两个靶中间来回震荡,电子到达了堆积了正离子的靶面时,电子可以和正离子中和,消除或减轻靶中毒,采用中频电源要配孪生靶,所谓孪生靶也就是两个临近的靶,可以是平面非平衡磁控溅射靶,也可以是两个柱状磁控溅射靶,这两个靶分别接中频的一个极,相互之间互为阴阳极。电子在两级间高速震荡,碰撞氩气电离,氩离子的密度大,金属离化率高,容易形成化合物膜。也可以获得绝缘膜。所以中频电源镀的膜层更细腻。中频电源可以提供在这么大的靶上镀绝缘膜,这在射频电源来说很难做到。

英能作为深圳真空镀膜电源厂家的其中一员,在中频磁控溅射电源上不短改善和提升,在使用效果上达到了非同一般的成绩,稳定性和膜层致密性都有了极大的提升。欢迎大家来电咨询:18025476062

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