作者：深圳市英能电气有限公司
时间：2024-06-03
PVD真空镀膜机是一种复杂的设备，其各个部件在镀膜过程中都起着关键的作用。以下是PVD真空镀膜机的主要部件及其功能分析：
真空腔体：
功能：镀膜过程需要在高真空条件下进行，真空腔体是保持腔体内高真空状态的关键部分。
构造：通常由不锈钢或其他耐腐蚀材料制成，内部经过特殊处理以避免气体泄漏。根据加工产品的要求，真空腔的大小可能有所不同，如直径1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等。
连接：真空腔各部分有连接阀，用来连接各抽气泵浦。
靶材供应系统：
功能：靶材是用来产生蒸发物或离子束的来源。
构成：靶材供应系统通常由加热器、靶材支架和传感器等组成，用于控制靶材温度和靶材表面的蒸发速率。
辅助加热系统：
功能：在一些特殊情况下，需要额外的加热来提高镀膜效果。
构成：辅助加热系统一般由加热器和加热控制装置组成，能够提供额外的加热能量。
辅助抽气系统：
功能：排气系统为镀膜机真空系统的重要部分，用于将真空腔内的气体抽出，维持高真空状态。
构成：主要有由机械泵、增压泵(如罗茨泵)、油扩散泵三大部分组成。此排气系统可能采用“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”的组合方式。
磁控溅射装置及电源：
功能：磁控溅射电源决定了磁控溅射工艺过程等离子体状态，对镀膜工艺和膜层生长质量起着至关重要的作用。
类型：磁控溅射电源类型有直流电源、中频电源和射频电源。其中直流电源因其简单可靠、工作稳定、功率大、沉积速率快而广泛应用于大面积TCO薄膜的制备。
除了上述主要部件外，PVD真空镀膜机还可能包括基带移动系统、控制系统等其他辅助部件，以确保镀膜过程的顺利进行。这些部件的协同工作使得PVD真空镀膜机能够制备出高质量、均匀性好的薄膜材料。
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