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真空镀膜电源领域-离子辅助清洗

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真空镀膜电源领域-离子辅助清洗

作者:深圳市英能电气有限公司

时间:2023-04-13

真空镀膜过程是一种高精度、高效率的表面处理技术,在现代工业生产中被广泛应用。然而,在进行镀膜之前,需要对表面进行彻底的清洗,以保证膜层的附着力和稳定性。其中一种常用的清洗方法是辅助离子清洗。

辅助离子清洗是通过引入一定能量的离子束对样品表面进行处理,以去除表面氧化层、氢化层和有机物质等,而且可在相对低温下进行,避免对样品造成热损伤。该清洗方法常用于金属、半导体、陶瓷等材料的表面处理,尤其适用于需要高度洁净表面的真空镀膜领域。

辅助离子清洗工艺主要由三个部分组成:离子源、清洗箱、能量调节器。离子源可以是离子枪或离子束源,用于生成离子束;清洗箱用于放置待清洗样品,通常是真空箱内的一个密闭区域;能量调节器是用于调节离子束中的能量,以满足样品表面的不同需求。

在实际应用中,辅助离子清洗应注意以下几点:首先,清洗时间应设定适当,过长会对样品表面造成过度加工和减小表面纯度的风险;其次,离子束的能量和浓度应适当调节,以保证清洗效果和对样品的不良影响最小化;最后,不同样品的材质和结构各异,需要根据实际情况进行合理的清洗工艺设计。

辅助离子清洗在真空镀膜领域中是一个重要的表面处理技术,其能够提高膜层附着力和品质,并大幅度减小表面缺陷和气孔的产生率,从而获得更加均匀、致密和具有高纯度的膜层。


深圳市英能电气有限公司是一家集真空镀膜电源/PVD镀膜电源的研发、生产与销售为一体的高科技企业,已获得高新技术企业认定,通过iso:认证,拥有专利多份。产品已获得ce、rohs认证。专注提供真空镀膜电源及工业控制领域的解决方案。咨询热线:180-2547-6062

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