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脉冲磁控溅射电源简介

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脉冲磁控溅射电源简介

作者:深圳市英能电气有限公司

时间:2022-12-28

说起单极脉冲磁控溅射电源,可能小伙伴有点疑惑,但是我要说它是直流磁控溅射电源的升级产品,是不是一下就豁然开朗了。脉冲磁控溅射是采用矩形波电压的脉冲电源代替传统直流电源进行磁控溅射沉积。脉冲溅射可以有效地抑制电弧产生进而消除由此产生的薄膜缺陷,同时可以提高溅射沉积速率,降低沉积温度等一系列显著的优点,是溅射绝缘材料沉积的优选工艺过程 在一个周期内存在正电压和负电压两个阶段,在负电压段,电源工作于靶材的溅射,正电压段,引入电子中和靶面累积的正电荷,并使表面清洁,裸露出金属表面。加在靶材上的脉冲电压与一般磁控溅射相同!400~500V,电源频率在10~350KHz,在保证稳定放电的前提下,应尽可能取较低的频率#由于等离子体中的电子相对离子具有更高的能动性,因此正电压值只需要是负电压的10%~20%,就可以有效中和靶表面累积的正电荷。占空比的选择在保证溅射时靶表面累积的电荷能在正电压阶段被完全中和的前提下,尽可能提高占空,以实现电源的最大效率。

单极脉冲磁控溅射电源最大的优点是可以有效地抑制电弧产生进而消除由此产生的薄膜缺陷,同时可以提高溅射沉积速率,降低沉积温度等一系列显著的优点,是溅射绝缘材料沉积的优选工艺过程

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