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真空镀膜溅射电源弧能量

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真空镀膜溅射电源弧能量

作者:深圳市英能电气有限公司

时间:2023-04-30

真空镀膜溅射电源弧能量是指在真空镀膜溅射过程中,产生的弧光能量大小。真空镀膜溅射过程中,电极产生的弧光能量通过电子轰击靶材表面,使靶材上的原子或分子从表面挥发并沉积到基材上形成薄膜。弧光能量大小直接影响了沉积薄膜的质量和产量。

弧光能量的大小与真空镀膜溅射电源的参数设置有关,如电压、电流、极间距等。在实际操作中,需要根据目标薄膜的要求和设备的实际情况,合理调整真空镀膜溅射电源的参数,以达到最佳的弧光能量大小和沉积薄膜的质量和产量


深圳市英能电气有限公司是一家集真空镀膜电源/PVD镀膜电源的研发、生产与销售为一体的高科技企业,已获得高新技术企业认定,通过iso:认证,拥有专利多份。产品已获得ce、rohs认证。专注提供真空镀膜电源及工业控制领域的解决方案。咨询热线:180-2547-6062

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